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真空鍍膜設備

簡要描述:真空鍍膜設備通常由多個關鍵部分組成,每個部分都有其特定的功能,協(xié)同工作以實現(xiàn)高效、均勻的薄膜沉積。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-08-06
  • 訪  問  量:185
  真空鍍膜設備通常由多個關鍵部分組成,每個部分都有其特定的功能,協(xié)同工作以實現(xiàn)高效、均勻的薄膜沉積。以下是主要組成部分及其功能介紹:

 


 
  主要組成部分
 
  真空腔體:
 
  功能:提供一個低壓或高真空環(huán)境,防止鍍膜材料在蒸發(fā)或濺射過程中與空氣中的雜質(zhì)反應,保證薄膜的純度和質(zhì)量。
 
  結(jié)構(gòu):通常由高強度、不銹鋼或鋁制成,內(nèi)部設計考慮了氣流分布和基材放置的便捷性。
 
  真空泵系統(tǒng):
 
  功能:用于將真空腔體內(nèi)的氣體抽出,以達到所需的真空度。
 
  類型:包括機械泵(如旋片泵)、渦輪分子泵、擴散泵和離子泵等。
 
  蒸發(fā)源或濺射源:
 
  功能:加熱并蒸發(fā)鍍膜材料,使其在真空中形成蒸氣或等離子體。
 
  類型:包括電阻加熱源、電子束蒸發(fā)源、磁控濺射源和激光蒸發(fā)源等。
 
  基材支架和旋轉(zhuǎn)機構(gòu):
 
  功能:固定基材,并通過旋轉(zhuǎn)或擺動確保鍍膜材料均勻地沉積在基材表面。
 
  結(jié)構(gòu):通常包括可調(diào)節(jié)的夾具和旋轉(zhuǎn)/擺動裝置,以適應不同形狀和尺寸的基材。
 
  電源和控制系統(tǒng):
 
  功能:為蒸發(fā)源、濺射源和其他設備提供電力,并控制整個鍍膜過程的參數(shù),如溫度、真空度和時間。
 
  組件:包括電源供應器、控制面板、計算機控制系統(tǒng)和監(jiān)測傳感器等。
 
  氣體供應系統(tǒng)(對于濺射鍍膜設備):
 
  功能:供應惰性氣體(如氬氣)或反應氣體(如氧氣、氮氣),以維持等離子體或參與化學反應生成特定薄膜。
 
  組件:包括氣瓶、流量控制器和氣體輸送管道等。
 
  冷卻系統(tǒng):
 
  功能:冷卻蒸發(fā)源、濺射源和真空腔體,防止過熱。
 
  類型:包括水冷系統(tǒng)和風冷系統(tǒng)等。
 
  監(jiān)測和檢測系統(tǒng):
 
  功能:實時監(jiān)測鍍膜過程中的關鍵參數(shù),如薄膜厚度、沉積速率、真空度和溫度,確保鍍膜質(zhì)量。
 
  類型:包括石英晶體微天平、光學厚度監(jiān)測儀和殘余氣體分析儀等。
 
  防護裝置:
 
  功能:確保操作人員和設備的安全,防止因高溫、高電壓或真空環(huán)境引起的危險。
 
  組件:包括防護罩、急停按鈕和安全聯(lián)鎖裝置等。
 
  綜上所述
 
  真空鍍膜設備通過這些組成部分的協(xié)同工作,實現(xiàn)了高質(zhì)量薄膜的沉積過程。這些設備在光學、電子、裝飾和功能性薄膜的制備中起到了至關重要的作用。
 
 

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