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實驗室真空鍍膜設(shè)備

簡要描述:實驗室真空鍍膜設(shè)備采用封閉的系統(tǒng)框架,外觀漂亮,使用安全。4~12組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-08-06
  • 訪  問  量:155
  實驗室真空鍍膜設(shè)備采用封閉的系統(tǒng)框架,外觀漂亮,使用安全。4~12組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等,特別適合OPV/鈣鈦礦/無機(jī)薄膜太陽能電池、半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。
 
  主要特點(diǎn)/優(yōu)勢:
 
  ★     封閉的系統(tǒng)框架設(shè)計,外觀更漂亮,使用更安全;是一臺兼具美學(xué)和用戶操控體驗的全新升級產(chǎn)品;
 
  ★     前開門真空腔體,方便取放基片、更換蒸發(fā)舟、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護(hù);
 
  ★     1200L/s分子泵作為主抽泵,真空極限高達(dá)8×10-5Pa(6×10-7Torr);另可選進(jìn)口磁懸浮分子泵或者低溫泵作為主抽泵,真空極限高達(dá)3×10-6Pa(2×10-8Torr);
 
  ★     4~12組水冷式蒸發(fā)電極,可長時間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計,源間有防止交叉污染隔板;
 
  ★     專業(yè)真空蒸發(fā)電源,恒流/恒功率控制。電流、功率可以預(yù)先設(shè)置,可實現(xiàn)一鍵啟動和停止的自動控制功能;
 
  ★     最大140mm基片/15~25mm ITO/FTO玻璃25片/球形樣品架,可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;基片臺公轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0~25rpm連續(xù)可調(diào);
 
  ★     襯底可選擇加熱或水冷,源基距最大350mm;
 
  ★     更優(yōu)的薄膜均勻性和重復(fù)性,采用進(jìn)口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚;
 
  ★     可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機(jī)物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
 
  ★     設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小(1.28平米);設(shè)備配腳輪,方便移動和定位。
 
 
 

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