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全封閉顯影機(jī)

簡要描述:全封閉顯影機(jī)主要用于半導(dǎo)體制造中晶片的顯影工藝,性價(jià)比高,穩(wěn)定性好,重復(fù)性好,對(duì)顯影作業(yè)有非常理想的效果。設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,并且噴嘴位置可程控移動(dòng),實(shí)現(xiàn)自動(dòng)顯影和清洗作業(yè)。

  • 產(chǎn)品型號(hào):DM200-SE
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-08-06
  • 訪  問  量:2141
  全封閉顯影機(jī)優(yōu)勢(shì)
 
  ·全封閉式顯影,避免霧氣擴(kuò)散到外部,污染環(huán)境。
 
  ·外殼噴塑,耐腐蝕,易清洗。
 
  ·內(nèi)腔鍍特氟龍,光滑,耐腐蝕,易清洗。
 
  ·內(nèi)置真空過濾器,防止液體吸入真空泵。
 
  ·真空壓力可調(diào),壓力值實(shí)時(shí)顯示。
 
  ·液體流量可調(diào),回吸可調(diào)。
 全封閉顯影機(jī)
  全封閉顯影機(jī)參數(shù)
 
  支持wafer尺寸:碎片至200mm(8"圓晶)
 
  ·轉(zhuǎn)速分辨率:±1 RPM
 
  ·旋涂速度:20-3000rpm(空載)
 
  ·旋涂加速度:10-10,000rpm/sec(空載)
 
  ·工藝時(shí)間設(shè)定: 0-3,000sec/step,時(shí)間設(shè)置精度: 0.1sec
 
  ·該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)(1路洗衣液,1路純水,1路氮?dú)?
 
  ·單步工藝及多步工藝可選,內(nèi)置100組可編輯程序
 
  ·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī)。
 
  設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,并且噴嘴位置可程控移動(dòng),實(shí)現(xiàn)自動(dòng)顯影和清洗作業(yè)。
 
 

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