離子濺射儀在樣品制備過(guò)程中為SEM用戶提供了更廣泛的選擇，以滿足支撐掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和人機(jī)界面方面，更加注重人性、簡(jiǎn)潔和智能。同時(shí)，通過(guò)智能人機(jī)界面，控制儀器簡(jiǎn)單方便。同時(shí)，它可以實(shí)時(shí)估計(jì)涂層厚度，顯示真空度和濺射電流。
離子濺射儀的操作注意事項(xiàng)：
1、一般來(lái)說(shuō)，操作距離可以調(diào)整。距離越近，濺射速度越快，但熱損傷越大。
2、在真空壓力下，離子流速越大，濺射速度越快，電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量越大，產(chǎn)生的熱量就越大，所產(chǎn)生的熱量也越大，真空度越低，I越小，濺射速度就越慢，原子晶粒越細(xì)，電子轟擊試樣產(chǎn)生的熱量就會(huì)越小。
3、加速電壓固定且可調(diào)。加速電壓越高，樣品的熱損失越大。通常使用金屬靶的比例范圍。
4、一些熱敏樣品需要冷卻、水冷或珀?duì)柼鋮s，或者可以使用磁控制設(shè)備像電磁透鏡一樣從樣品中分離電子。當(dāng)然，經(jīng)過(guò)這種改造后，將增加非常高的成本，但可以濺到蠟表面上的金屬層不會(huì)造成任何損壞！相比之下，高成本可以帶來(lái)很多好處。
5、真空中雜質(zhì)越多，涂層質(zhì)量越差。一般來(lái)說(shuō)，金是相對(duì)穩(wěn)定的，可以使用空氣作為等離子氣源，而許多其他靶需要惰性氣體。
6、隨著氣體原子序數(shù)的增加，動(dòng)量增加，濺射速度增加，但晶粒會(huì)變厚，連續(xù)膜會(huì)變厚。
7、真空室的清潔對(duì)高質(zhì)量涂層非常有利。
8、機(jī)械真空泵不允許長(zhǎng)時(shí)間保持真空極限，否則容易倒油。
9、使用離子濺射儀器時(shí)，應(yīng)特別注意以上8點(diǎn)，保護(hù)儀器并盡可能延長(zhǎng)其使用壽命。
點(diǎn)擊交流